SLZF270B蒸发镀膜设备
设备组成：
该设备主要由有机金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、电控系统组成。
技术要求：
1、真空度：镀膜室的极限真空≤8×10-5Pa；
2、系统漏率≤1×10-10PaL/s。
3、蒸发源2个，容积1ml，1台蒸发电源 0.5Kw；(选配)
4、样品架可放置大小为Φ120mm的样品，载玻片；
5、抽速 30分钟9×10-4Pa
沈阳思联真空设备有限公司
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SLZF270B蒸发镀膜设备设备组成：该设备主要由有机金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、电控系统组成
SLZF270B蒸发镀膜设备
设备组成：
该设备主要由有机金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、电控系统组成。
技术要求：
1、真空度：镀膜室的极限真空≤8×10-5Pa；
2、系统漏率≤1×10-10PaL/s。
3、蒸发源2个，容积1ml，1台蒸发电源 0.5Kw；(选配)
4、样品架可放置大小为Φ120mm的样品，载玻片；
5、抽速 30分钟9×10-4Pa
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