一、
替代KLA白光干涉膜厚仪采用光学干涉原理实现纳米至微米级薄膜厚度的非接触测量。
二、工作原理
NS-30采用垂直入射高稳定宽波段光的光学干涉原理，实现纳米至微米级透明或半透明膜层厚度、反射率及折射率的测量。垂直入射的高稳定宽波段光入射到样品表面，在各膜层之间产生光学干涉现象，反射光经过光谱分析以及回归算法可计算出薄膜各层的厚度。
非接触桌面式自动 薄膜膜厚测厚仪核心功能
三、产品特点
1、核心优势：
- 软硬件国产化：100%国产自研，100%自主可控
- 非接触测量：可测量硬质材料、软质材料或表面易受损的样品
- 高精度高稳定性：亚纳米级厚度测量精度，静态稳定性可达0.02纳米
- 多层膜测量能力：可以测量多层复合薄膜各层的厚度
- 智能化算法：核心算法，一键式测量大跨度膜厚
2、功能特色：
- 样品自动测量，平台尺寸100mm~450mm可选
- 软件根据需求自动生成测量点位分布
- 2D和3D测绘效果，包含厚度/折射率/反射率等信息
- 可测量薄膜应力和表面弯曲(Stress/Bow)
- 测量速度：5个点-5秒（200mm晶圆），25个点-14秒
四、应用领域
1、NS-30薄膜测厚仪广泛应用于多个高科技领域：
- 半导体制造：沉积/蚀刻薄膜厚度测量、CMP工艺表面平整度检测、抗蚀剂台阶高度分析
- 光伏与显示面板：太阳能涂层膜厚、AMOLED屏微结构、触控面板铜迹线测量
- 光学镀层：AR抗反射层、AG防眩光涂层、滤光片、眼镜等光学元件的膜厚测量
- 电子与材料科学：半导体芯片、液晶显示屏等器件的薄膜厚度测量，材料表面应力分析
- 生物医学：Parylene派瑞林、聚合物、生物膜、医疗设备等薄膜材料的厚度检测
2、维护保养：
- 保持机器清洁，非试验时间覆盖防尘布
- 避免电磁磁场干扰仪器工作
- 定期进行校准和维护
NS-30系列作为桌面式自动膜厚测量分析系统，在膜厚测量的基础上迭加自动测样载台，能够对设置好的点位进行自动测量，并进一步生成2D和3D的资料分布图，特别适用于晶圆膜厚测量等精密应用场景。
