ZEISS Sigma
蔡司 Sigma 系列产品将场发射扫描电子显微镜技术与优秀的用户体验的结合在一起。
产品详情
更简单、更智能、更集成
利用 Sigma 直观的 4 步工作流程，可以使得日常所需的成像和分析的效率得到提高，这样，将会在比以往更短的时间内获得更多的结果。另外，Sigma可以配备多种探测器，可以满足各种不同的应用需求：颗粒物、表面构型、纳米结构、薄膜样品、涂层以及膜层等样品的成像。采用 Sigma 系列产品将使您在成像领域获得一席之地，其中：Sigma 300 具有的性价比；而Sigma 500 以其的 EDS 几何设计实现的分析性能。无论何种试样，Sigma 都能以其高精确性及可重复的测量结果得到您的信赖！
灵活的探测手段获取高分辨的图像
Sigma 的探测器技术可以满足不同需求。的表征样品的形貌，成分以及晶体结构等。可选的lnLens Duo 探测器可实现在一个探测器上获取形貌和成分两种信息，因而更进一步扩展 Sigma 的成像性能。全新一代的二次电子探测器，其信号强度比之前提高 50%，从而可实现更高对比度以及更高分辨率的图像。另外，在低真空环境中，全新的C2D 和 VPSE 探测器可实现对比度优于之前探测器85% 的清晰的图像。
智能并加速工作流程
Sigma 的 4 步工作流程可控制查找 Sigma 的所有功能。可快速获取图像，同时，节约在不同模式的了解时间，尤其在多用户使用的情况下。步是图像导航，在电镜下直观的进行样品的导航和定位；接着，只需简单的点击鼠标便自动为不同样品设置的成像条件；下一步，使用自动智能成像模式在样品上定义感兴趣区域，便可自动实现在多个样品上自动采集多组数据。最后，SmartBrowse 软件将这些数据组处理并绘制成交互式的全景图。这样，对样品便可有完整的理解。
的分析系统
Sigma 的 EDS 几何设计能够增强分析能力，尤其是对电子束敏感的样品。可实现在之前一半的束流下得到分析数据，同时测试速度比之前快一倍。Sigma 系列产品能够提供快速完整的 X 射线分析及三维重构。Sigma 将 EDS 探测器放置在 8.5mm 的工作距离和 35 度的出射角，通过将探测器的位置靠近样品，可得到没有阴影区域的分析结果。Sigma的分析系统，可成为值得依赖的选择。
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