EVG®770 Step-and-Repeat Nanoimprint Lithography System

EVG®770 分步重复纳米压印光刻系统

分步重复纳米压印光刻技术，可进行母版制作

技术数据

EVG770是用于步进式纳米压印光刻的通用平台，可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种允许从50 mm x 50 mm的小模具到300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。与钻石车削或直接写入相结合，分步重印通常用于有效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。

EVG770的主要功能包括的对准功能，过程控制以及可满足各种设备和应用需求的灵活性。

特征

高效的晶圆级光学微透镜主制造，直至SmartNIL®的纳米结构

简单实施不同种类的大师

可变抗蚀剂分配模式

分配，压印和脱模过程中的实时图像

用于压印和脱模的原位力控制

可选的光学楔形误差补偿

可选的自动盒带间处理

技术数据

晶圆直径（基板尺寸）100至300毫米

解析度≤50 nm（分辨率取决于模板和工艺）

支持流程：柔软的UV-NIL

曝光源：大功率LED（i线）> 100 mW /cm²

对准：顶侧显微镜，用于实时重叠校准≤±500 nm和精细校准≤±300 nm

印刷模具到模具的放置精度：≤1微米

有效印记区域：长达50 x 50毫米

自动分离：支持的

前处理：涂层：液滴分配（可选）