原子层沉淀（ALD）用臭氧发生器有哪些品牌呢
以下是一些原子层沉积（ALD）中可能会用到的臭氧发生器品牌：
北京同林（TOGNLIN）：北京同林科技有限公司是一家是提供高纯高浓度臭氧发生器系统服务商，目前产品包括半导体用高浓度臭氧发生器、臭氧气体分析仪、溶解臭氧分析仪、臭氧水机、半导体用管道和接头等。 已经应用于众多半导体企业、科研单位。为原子层沉积（ALD）、化学气相沉积（CVD）、光刻胶带、晶片清洁、污染物去除、表面调节和氧化物生长等半导体工艺设备提供系统设备。适用于半导体的型号包括ATL-H30，3S-T10 ，NANO-15等。
奥尔斯曼（olsm）：天津奥尔斯曼新能源科技有限公司专注于设计、研发和制造各类的高纯高浓度臭氧发生器系统，为原子层沉积等半导体工艺设备提供的臭氧解决方案。公司目前已量产 3 个系列的高纯高浓度臭氧发生器设备，包括 O3HIS 系列、HCV4014 系列和 CH1004 系列。
国林科技（GUOLIN）：青岛国林环保科技股份有限公司成立于 1994 年，专业从事臭氧产生机理、臭氧应用技术、臭氧材料研究和臭氧设备制造，是亚洲较大的专业化臭氧装备生产企业。公司拥有多项专有技术，产品可应用于多个领域，在原子层沉积方面也有一定的技术实力和。
苏伊士新创建（SUEZ）：法国苏伊士环境有限公司旗下品牌，始于 1897 年法国，由 OZONIA 更名而来，是的臭氧和紫外线消毒技术提供商和设备制造商，其臭氧发生器产品在水处理、工业应用等领域有广泛的应用，也可能涉及原子层沉积等领域。
威德高（Wedeco）：隶属于赛莱默集团，1976 年创始于德国，是世界水技术企业，较大规模的紫外线消毒系统和臭氧氧化系统的制造商。威德高于 1988 年推出臭氧技术，应用于饮用水、废水、工艺用水、产品抛光、漂白、臭氧分解合成和除臭等场景，在原子层沉积行业也可能有一定的市场。
三菱（Mitsubishi）：三菱电机株式会社始于 1921 年日本，作为一家技术导向型企业，在压缩机、自动化、变频控制、动力设备等高科技领域造诣极深，其研发与制造的臭氧发生器被广泛应用于净水处理、污水系统及工业废水的处理设施等各种场所，也可能应用于原子层沉积工艺中。
