表面接触角测量仪Theta Flex 一、核心参数（光刻胶测试标准配置）
品牌型号：AttensionThetaFlex（BiolinScientific,Finland）
接触角范围：0~180°，精度±0.01°，分辨率0.01°
测量模式：静态/动态（前进/后退）、滚动角、表面自由能（SFE）、粗糙度修正接触角
成像系统：USB3.0500万像素高速CMOS，3422fps，自动对焦
滴液系统：一次性针头（DisposableTips），0.1~500μL，皮升级可选
样品台：电动XYZ，763×230×435mm，承重26kg
3D形貌模块（光刻胶必选）：条纹投影，XY像素1μm，粗糙度修正（Wenzel/Young）
软件：OneAttension（全功能，免费升级）
尺寸/重量：765×620×460mm/55kg
二、光刻胶测试五大核心优势
亚微米级精度，匹配制程
0.01°超高精度，精准捕捉光刻胶涂覆前晶圆清洗/羟基化/HMDS处理后的表面能变化（通常<1°差异），直接决定均匀性、针孔、边缘珠滴（Beading）。
动态接触角（前进/后退），评估涂布性能
自动测量前进角（Advancing）/后退角（Receding），**滞后角（Hysteresis）**直接反映：
光刻胶涂布均匀性
显影液润湿/渗透效率
抗蚀剂附着力与剥离性
3D形貌+粗糙度修正，消除纳米粗糙度干扰
光刻胶薄膜（50~200nm）粗糙度直接影响接触角。ThetaFlex同步测3D形貌，自动计算真实杨氏接触角（Young'sAngle），排除粗糙度伪差，数据可用于制程建模。
一次性针头，零交叉污染
光刻胶、显影液、清洗液（PGMEA、TMAH、水）切换免清洗，无残留/无交叉污染，符合半导体高纯/无尘室要求。
全自动批量测试（晶圆级）
支持8/12英寸晶圆，预设多点（中心/边缘/十字）自动测量，10分钟/片，数据直接导出SPC/CPK，适配量产质控。
三、光刻胶典型测试项目
晶圆表面能（酸/碱清洗、HMDS、UV臭氧处理）
光刻胶润湿性（静态/动态角、表面能极性/色散分量）
涂布缺陷预测（接触角>35°易珠滴、<10°易过蚀）
显影液兼容性（TMAH/四甲基氢氧化铵润湿速率）
剥离液/清洗剂评估（抗蚀剂剥离效率）
涂层均匀性（晶圆面内/面间接触角均匀度）
