2026年04月23日 10:15:05 来源：伯东企业（上海）有限公司深圳办事处 >> 进入该公司展台 阅读量：20
IBE 离子束刻蚀机应用优势
上海伯东日本 NS 离子束刻蚀机可以用来刻蚀 8寸的几乎任何固体材料, 包括金属, 合金, 氧化物, 化合物, 混合材料, 半导体, 绝缘体等.使用考夫曼型离子源, 栅网拉出的离子束的能量和密度可以独立控制, 提升了工艺可控性; 刻蚀机载片台的角度可调整, 实现离子束倾斜入射, 可用于特殊图案的刻蚀, 也适用于侧壁清洗等工艺, 支持批量多片刻蚀工艺
上海伯东离子束刻蚀机典型刻蚀材料
类别 | 器件 | 刻蚀材料 |
磁性材料 | 自旋电子: MR / AMR / GMR / TMR, MRAM, HDD | Ni-Fe, Ni-Co, TiO2, BST, Co-Fe, Ta, Cu, Ni-Mo, SiO2 等等… |
传感器 MEMS | 铂热电阻, 流量计, 红外传感器, 压电打印机头等 | PT, PZT, Au, Pt, W, Ta (electrode) 等等… |
RF 射频器件 | 射频滤波器, GaAs / GaN HEMT 等 | Au, Pt, Ti, Ru, Cr, LN (LiNbO3) 等 |
光电子 | 激光二极管, 光电探测器, 薄膜分装等 | Au, Pt, Ti, TaN, GaN 等 |
其他 | 探针卡, 薄膜片式电阻器, 氧化物, 超导等 | NiCr, Cr, Cu, Pd, Ir, LuFe2O4, SrTiO4, MgOHfO2 等
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IBE 离子束刻蚀机应用优势
1. 干法刻蚀, 物理蚀刻, 纳米级别的刻蚀精度; 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状
2. 基板直接加装在直接冷却装置上,可以在低温环境下蚀刻; 配置公转自转传输机构 ”Dry Chuck Planet ”, 使得样品可以得到比较均匀平滑的表面. 刻蚀均匀性 ≤±5%
3. 几乎满足所有材料的刻蚀, IBE 可用于反应离子刻蚀 RIE 不能很好刻蚀的材料
4. 可选配德国 Pfeiffer 分子泵和旋片泵, 客制化设计, 超高自由度, 设计紧凑, 占地面积小
5. 支持批量多片刻蚀工艺
上海伯东离子束刻蚀机典型应用: 可根据客户的要求进行定制. 离子束刻蚀作为干法蚀刻工艺中的微细加工被广泛应用. 由于是不伴随化学反应的物理蚀刻工艺, 因此不仅适用于Au, Pt, 磁性材料等难蚀刻材料的加工, 也适用于由多个金属膜形成的多层膜蚀刻工艺.
1. MEMS 传感器芯片刻蚀: PT, PZT, Au, Pt, W, Ta (electrode) 等等…
2. 光栅刻蚀: 薄膜铌酸锂（LN）光栅耦合器制备, 闪耀罗兰光栅制作, AR 眼镜斜光栅制备, GaN光栅制造
3. 磁性器件: Ni-Fe, Ni-Co, TiO2, BST, Co-Fe, Ta, Cu, Ni-Mo, SiO2 等等…
4. 自旋电子学: 选配终点检测器, 可实现超薄磁性层刻蚀控制.
伯东公司超过 50年的离子刻蚀市场经验, 拥有庞大的安装基础和经过市场验证的刻蚀技术!
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