在微纳米加工、半导体、光学器件等制造领域，光刻胶去除是决定产品良率的关键工序，等离子去胶机凭借无损伤、高精度、环保清洁的优势，成为行业主流选择。上海沛沅仪器设备有限公司专注等离子表面处理设备研发与制造，聚焦微加工、半导体、光电器件场景，提供稳定可靠的去胶、清洗、活化一体化解决方案。
PLUTO-MD (8L) 小型
等离子去胶机，专为实验室与小批量产线设计，搭载 13.56MHz 射频发生器、双层气浴电极，支持双路工艺气体控制，可适配 4~6 寸硅片去胶，有效防止油雾回流、降低腔体污染。上海沛沅仪器设备有限公司匠心打造这款桌面式去胶设备，操作简单、维护便捷，兼顾物理轰击与化学反应，去胶不损伤基材。
该设备广泛应用于功率晶体管、传感器、光学器件、LED、生物芯片等领域，具备前后吹扫、电极间距可调、参数精准控温等核心优势，满足金属、陶瓷、玻璃、硅片等多种材料处理需求。上海沛沅仪器设备有限公司持续优化等离子去胶工艺，以高稳定性、高性价比与完善售后，成为科研院所与企业用户信赖的国产等离子设备品牌。
从参数设计到实际应用，PLUTO-MD (8L) 等离子去胶机精准匹配微纳加工全流程需求，用硬核性能解决残胶、基底损伤等行业痛点。未来，随着制造不断升级，以上海沛沅仪器为代表的国产厂商，将持续推动等离子去胶技术迭代，为微加工与半导体产业提供更智能、更高效、更可靠的装备支撑。
