华仪行(北京)科技有限公司是专注于等离子体处理设备研发、生产与销售的高新技术企业，深耕半导体、微电子、科研实验室等领域，提供高性能等离子刻蚀、清洗等专用设备，以稳定可靠的产品与完善服务助力前沿技术研发。
华仪行(北京)科技有限公司旗下 CIF 品牌重磅推出
SPB5/plus 型 RIE反应离子刻蚀机，采用先进 RIE 反应离子诱导激发技术，可实现材料表面各向异性的高精度微结构刻蚀，满足科研与工业级精细加工需求。
作为国内等离子设备专业制造商，华仪行(北京)科技有限公司始终聚焦用户实际需求，打造使用成本低、性价比高、易维护、处理高效的刻蚀设备，广泛服务于高校、科研院所、微电子及半导体企业实验室。
产品核心信息
品牌：CIF
产品型号：SPB5/plus
厂商性质：生产厂家(华仪行(北京)科技有限公司)
适用场景：介质刻蚀、硅刻蚀、金属刻蚀等微结构加工研究
适配基材：介电材料、硅基材料、III-V 族化合物、溅射金属、类金刚石(DLC)等
应用领域：微电子芯片、太阳能电池、生物芯片、显示器、光学、通讯等器件研发与制造
产品亮点
智能操控：7 寸彩色触摸屏，中英文界面，支持 20 组配方存储，工艺数据可追溯
稳定控制：PLC 工控机，手动 / 自动双模式，全程自动监控工艺参数
耐腐蚀设计：真空舱体与管路采用 316 不锈钢，耐腐蚀、无污染
精准进气：防腐数字流量计，标配双路气路，支持多种工艺气体
均匀刻蚀：花洒式多孔进气，解决单孔进气不均问题
洁净安全：HEPA 高效过滤，舱门开门断电，多重安全保护
便捷操作：60° 倾角人机界面，顶置上开盖舱体，360° 水平取放样品
大处理面积：最大可加工直径 154mm 晶圆硅片
这款由华仪行(北京)科技有限公司精心打造的 CIF RIE 反应离子刻蚀机，兼顾高精度、高稳定性与高性价比，是微纳加工、半导体研发、材料科学研究的理想选择。
