半导体专用
氢气发生器是集成电路、LED、光伏及先进封装工艺中提供高纯、无油、无水氢气的核心供气设备，广泛用于CVD、退火、还原等关键制程。其以水电解或钯膜纯化技术为基础，替代传统钢瓶，实现安全、连续、洁净的氢源供应。若操作不当，易因水质不达标、维护缺失或误操作，导致纯度下降、露点升高、系统报警甚至安全隐患。半导体专用氢气发生器应严格遵循水源净、流程严、监控全、防护牢四大原则，才能确保产得纯、供得稳、用得安。
一、使用前准备与环境要求
水源必须为超纯水（电阻率≥18.2MΩ·cm）：
普通去离子水含离子杂质，会加速电解槽结垢，降低效率；
安装于通风良好、防爆区域：
配备氢气泄漏报警器（设定值≤1%LEL）、强制排风系统及防爆电气；
接地可靠：
接地电阻＜4Ω，防止静电积聚。
二、启动与运行规范
预检与自检：
开机前确认水箱液位正常、管路无泄漏，设备自动执行内部吹扫与纯度自检；
避免频繁启停：
半导体工艺需连续供气，建议7×24小时运行，短时停机应启用“待机模式”维持正压；
实时监控关键参数：
氢气纯度（在线质谱或热导传感器）；
露点（≤–70℃）；
出口压力（通常0.3–0.6MPa）；
电解电流/电压是否稳定。
三、耗材与定期维护
每500小时更换前置过滤器与干燥剂：
即使使用超纯水，微量有机物仍可能积累，影响钯膜寿命；
每年校准纯度与露点传感器：
确保符合SEMIF57或客户SPEC要求；
电解槽寿命管理：
记录累计产氢量，超限（如10,000Nm3）后联系厂商更换核心模块。
