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官宣!我国正式突破7nm光刻技术

2026年02月24日 10:07:36      来源:上海隽思实验仪器有限公司 >> 进入该公司展台      阅读量:2

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      近日,  正式发布了《(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》(以下简称《指导目录》),这一举措旨在推动我国重大技术装备的创新发展和推广应用,同时加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同效应。

值得注意的是,《指导目录》中提到的氟化氩光刻机,代表了当前半导体制造领域的技术。光刻机被誉为"芯片之母",是集成电路制造中关键的设备之一。能够生产出如此高精度的光刻机,意味着我国在半导体制造装备领域已经取得了重大突破,为未来实现芯片的自主可控奠定了坚实基础。

这一目录的发布,不仅仅是一份简单的技术指标清单,更体现了我国在制造业领域的战略布局。通过鼓励和支持(套)重大技术装备的研发和应用,我国旨在加速关键核心技术的突破,推动产业链向化、智能化方向发展,最终实现制造强国的宏伟目标。

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