氨气是半导体制程中重要的材料，以发光二极管(LED)为例，纯氨是制造LED的氮化镓晶体的重要材料，一般LED厂使用的纯氨虽为6N5(99.99995%)以上的等级，但纯氨仍无法避免含有微量的有机物，例如丙酮、异丙醇、甲烷、乙烷、丙烷、乙烯、丙烯等。当LED厂以MOCVD制程在高温下(750～1050℃)合成氮化镓时，有机物将会裂解为烷类、烯类、一氧化碳、二氧化碳、碳粒、烯酮等的衍生杂质。
　　在另一方面，每提供100公斤的纯氨进入LED制程，将会有80公斤的氨气被排出制程，而一般排出制程的氨气浓度约为10%～15%，并包括氢气、氮气、甲烷、微量气体(一氧化碳、二氧化碳、烯酮)及粒状物(碳粒及金属镓)，一般大都将这些排出的氨气视为废弃物而不再利用。排出的废氨气通常会被导入水中，并形成氨水排出。
氨水处理装置，其特征在于，它包括：
　　多个板槽，以层迭的方式设置，该板槽包括一板体及至少一侧板，其中，该板体包括一上表面及一下表面，而该侧板设置于该板体的该上表面，使得该侧板与该板体的该上表面之间形成至少一容置槽;
　　一外壳体，包括多个壳板、至少一液体输入端、至少一液体输出端及至少一气体输出端，该多个壳板之间具有一容置空间，该层迭设置的板槽设置于该容置空间内，并将该容置空间区隔成为流动空间，其中，该液体输入端、该液体输出端及该气体输出端流体连通该流动空间，且该流体输入端的上方及下方皆设置该板槽;

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