大家都知道，流体抛光机的原理是通过挤压流体磨料，在压力的作用下，与工件抛光面进行摩擦，从而达到抛光去毛刺的效果。但是，为什么流体抛光在去除纹路和粗糙颗粒的时候，可以保持精度？为什么太深的纹路无法去除？

首先回答个问题，通过一个简单的例子来解释一下，假设有这样一个工件需要抛光内表面，工件内表面有着深浅不一的纹路：

当流体磨料通过内表面时，一定是较深的纹路或较大的粗糙颗粒所受压力，从而所受摩擦力。而平滑的地方所受压力最小，摩擦力也最小。所以在抛光时，一定是优先将纹路或颗粒去除掉，而平滑的地方去除量则不多。这有点像洪水过境，一定是优先将地表上的凸起物荡平。

流体抛光机的去除量，正常情况下，是在0.001-0.0015mm左右，极限去除量也就2-5丝。继续抛光下去，也不会切削多少量了。因为抛光面达到一定的平滑度时，在当前压力及磨料颗粒度下，已经达到了契合状态。

再来看看为什么浅纹路可以去除而深纹路去不掉，其实前文有所提及。种情况就是，深纹路超过了流体抛光机去除量的极限值，当然是去不掉的。这种情况的解决方案有两种，其一是控制纹路，其二是先人工打磨深纹路，然后再抛光。

第二种情况是，工件公差要求很高，但抛光面的原始粗糙度又非常差，这时候如果想让深纹路也去除掉，就会超过公差要求。所以，对于精度较高的产品来说，一定要在前一道工艺控制好粗糙度，不能把所有的问题都丢给最后的工序，让流体抛光机来解决，这不现实。

通过这些图文说明，相信大家已经对流体抛光机的抛光特性有了一定的了解，如果您的产品适合这种工艺抛光，可以寄一点过来，我们免费为您试样。