射频磁控溅射镀膜仪主要适用于扫描电镜镀覆导电膜，仪器操作简单方便，是样品制备所必要的仪器。适用的靶材：金、铂、金钯合金、银、铅、铜、铬、锑等！
描述
1、离子溅射仪工作原理：磁控溅射；
2、可选靶材：金，铂，金钯合金，铅，银，铜，铬，锑等；
3、真空室：φ128×100高硅硼玻璃；
4、全自动操作，简单易用，非常适用钨灯丝、台式扫描电镜等；
溅射电流自动调整—设定溅射电流后，系统自动调节真空度，从而达到设定的溅射电流，调整时间＜5s，波动范围＜±5%；
5、无需按“实验”键调整溅射电流、无需操作“进气阀”：
（1）溅射时间自动记忆——同类样品一次设定即可；
（2）参数改变自动调整——溅射过程中可以随时调整溅射电流和溅射时长，系统自动计算叠加，无需终止溅射过程；
（3）工作完成自动放气；
（4）样品台高度调节1秒完成；
（5）溅射过程可以利用曲线显示，清晰直观；
（6）极限真空：小于1Pa；
6、软硬件互锁，防误操作，安全可靠：
（1）真空度高于100Pa，启动真空保护，无法溅射；
（2）溅射电流高于50mA，停止溅射过程；
（3）真空泵工作时，系统无法进行放气操作；
7、GVC-1000射频磁控溅射镀膜仪镀层均匀，导电性良好。
