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高温氧化炉设备特点

2024年10月14日 11:29:32      来源:工业之家 >> 进入该公司展台      阅读量:41

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 高温氧化炉
  一、产品简介
  德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商,尤其在高温设备领域。Centrotherm Oxidator 150经过专业的研发,能够满足SiC圆片的高温氧化工艺;同时亦可用于常规的硅圆片的氧化。Centrotherm Oxidator 150的反应腔具有性能高、占地小和生产成本低等特点,为客户提供最高的工艺灵活度,同时能够保证有毒气体的安全使用。
  高温氧化炉设备特点:
  炉管和加热器均处于真空密闭反应腔内,上下料腔室可用Ar或N2进行吹扫,可以保证有毒气体(如NO、N2O、H2、NO2等)的安全使用。
  氧化工艺使用N2O气氛,可以改善SiO2/SiC接触表面以获得更高的通道迁移率,同时可提高SiC表面氧化物的稳定性和寿命。
  提供带有氢氧合成系统的湿氧工艺。
  高达1350℃的温度和其他支持功能为SiC氧化工艺和低界面陷阱密度,高通道移动率的氧化层研制提供可能。
  二、适用工艺
  高温SiC或Si氧化
  氧化后退火(氢气环境)
  三、产品特性
  性能
  圆片尺寸:2″、3″、4″、6″
  工艺温度:900℃~1350℃
  
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