Trymax半导体 等离子体光刻胶去除 干法去胶 等离子去胶机NEO3400系列

Trymax自2003年开始运营，总部设在荷兰Nijmegen，有数十个销售中心以及服务中心。Trymax的核心业务是通过使用等离子体来去除光刻胶以及表面清洁活化，同时Plasma系统可以用于集成电路和其他半导体器件的蚀刻。Trymax设备在半导体去胶、清洗、活化工艺中起到了关键性作用，已经得到世界各大半导体制造商的青睐。

Trymax等离子系统在中国大陆已经和多家客户建立合作关系，如TI、昆山华天、合肥汇成、株洲中车、三安光电、莆田福联、AMKOR、国网、中电13所、中科院微电子所等。

Trymax等离子去胶机 干法去胶NEO3400系列

•特点

-可以做到300mm晶圆/基板尺寸
- 3到4个上下料盒
- 4轴机械手搭配x移动
- 2或4个制程室
- 4个不同的进程室:
•单微波源配置( GHz)
•单射频源配置()
•双源配置(RF/MW)
• DCP双源(RF/RF)
-良好的一致性和可重复性
-机械速率> 300wph
-占地面积小
-使用成本低
-全数字控制
-工业计算机Windows

•应用

-湿法或干法刻蚀前后的去残胶
-浮渣去除
-化学残余物去除
-高剂量离子注入光刻胶的去除
-氮化硅刻蚀
-湿法或干法刻蚀前后的去残胶